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机译:坡莫合金薄膜中电流自旋极化程度的厚度依赖性
IPCMS and NIE, UMR 7504 CNRS-Universite de Strasbourg, 23 rue du Loess, BP 43, 67034 Strasbourg Cedex 2, France;
IPCMS and NIE, UMR 7504 CNRS-Universite de Strasbourg, 23 rue du Loess, BP 43, 67034 Strasbourg Cedex 2, France;
electronic transport phenomena in thin films; spin waves; magnetoelectronics; spintronics: devices exploiting spin polarized transport or integrated magnetic fields;
机译:坡莫合金/ ga /坡莫合金薄膜的电磁性能的温度依赖性
机译:MoS 2 sub>及相关过渡金属二卤化物超薄膜的自旋极化厚度与电子结构的关系
机译:蒸发坡莫合金薄膜的结构,电和磁性能:基底和厚度的影响
机译:非常薄的坡莫合金薄膜中感应磁各向异性的厚度依赖性
机译:使用极化分析(SEMPA)的扫描电子显微镜研究坡莫合金薄膜和3%Si-Fe片的表面磁显微结构。
机译:MoS2和相关过渡金属二卤化物超薄膜的自旋极化厚度与电子结构的关系
机译:厚度依赖性的自旋极化程度 坡莫合金薄膜中的电流