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Kinetic model of local droplet etching

机译：局部液滴刻蚀的动力学模型

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The self-organized in situ drilling of nanoholes into semiconductor surfaces by using liquid metallic droplets during conventional molecular beam epitaxy represents a new degree of freedom for the design of heterostructure devices. A model of this local droplet etching is presented that is based on a core-shell droplet structure. With the model, the evolution of the droplet and substrate morphology is calculated. We demonstrate quantitative agreement between model results and measured morphologies. Furthermore, also the influence of the process temperature is correctly reproduced by the model.
机译：在常规分子束外延过程中，通过使用液态金属液滴自组织地在半导体表面上纳米孔的自组织组织，为异质结构器件的设计提供了新的自由度。提出了一种基于核-壳液滴结构的局部液滴刻蚀模型。使用该模型，可以计算出液滴的演变和基底形态。我们证明了模型结果与测量形态之间的定量一致性。此外，模型还正确地再现了过程温度的影响。

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