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机译:静电力在接触模式扫描力显微镜中的影响
Institute of Physics, University of Bonn, Wegelerstrasse 8, 53115 Bonn, Germany Max Planck Institute for Microstructure Physics, Weinberg 2, 06120 Halle, Germany;
Institute of Physics, University of Bonn, Wegelerstrasse 8, 53115 Bonn, Germany;
Institute of Physics, University of Bonn, Wegelerstrasse 8, 53115 Bonn, Germany;
atomic force microscopy (AFM); dielectric, piezoelectric, ferroelectric, and antiferroelectric materials;
机译:静电力的表征,用于扫描微结构表面的静电力显微镜
机译:扫描微结构表面静电力显微镜的静电力表征
机译:极化力在扫描静电力显微镜中测量电介质表面轮廓的实验
机译:扫描力显微镜和近场光学显微镜在液晶系统中的应用:观察自由表面近晶结构力和分子取向
机译:压电响应力显微镜使用自适应接触模式成像
机译:低力接触模式原子力显微镜对活细胞表面的成像。
机译:静电力对接触式扫描力显微镜的影响
机译:原子力显微镜和扫描隧道显微镜与组合原子力显微镜/扫描隧道显微镜