...
机译:半导体二氧化锡中大量氧空位的电子自旋共振参数
Laboratory of Physical Chemistry, Department of Chemistry, University of Helsinki, P.O. Box 55 (A.I. Virtasen aukio 1), FIN-00014 Helsinki, Finland;
Department of Physics, Tampere University of Technology, P.O. Box 692, FIN-3310I Tampere, Finland;
rnSouth- Ukrainian University, Staroportofrankovskaya Str. 26, 65008 Odessa, Ukraine;
rnDepartment of Physics, Tampere University of Technology, P.O. Box 692, FIN-3310I Tampere, Finland;
rnNMR Research Group, Department of Physics, University of Oulu, P.O. Box 3000, FIN-90014 Oulu, Finland Laboratory of Physical Chemistry, Department of Chemistry, University of Helsinki, P.O. Box 55 (A.I. Virtasen aukio 1), FIN-00014 Helsinki, Finland;
color centers and other defects; semiconductor compounds; charge carriers: generation, recombination, lifetime, and trapping;
机译:氟和氢掺杂的二氧化锡中阳离子空位的电子自旋共振参数
机译:ZnMgO纳米棒中氧空位与镁之间自旋-自旋相互作用的电子顺磁共振研究
机译:电子自旋共振揭示了与(100)Si上功能性HfO2层中正电荷俘获有关的缺陷:氧空位的证据吗?
机译:基于纳米二氧化锡的传感器材料中缺陷的电子自旋共振表征
机译:第一部分:氧的电子磁共振研究 r n自由基基体的运动和相互作用 r n聚合物以及表面上的 r n第二部分:二氧化硅表面上的 r n自由基的电子自旋共振表征
机译:金刚石中氮空位中心的电子自旋共振位移和线宽加宽与电子辐照剂量的关系
机译:通过电子自旋共振显示的功能性HFO2层的正电荷诱捕与正电荷俘获相关的缺陷:氧气空位的证据?
机译:半导体同质外延金刚石薄膜的氧基电子回旋共振蚀刻。 (重新公布新的可用性信息)