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机译:硅中浅施主态的理论固有寿命极限
Ecole Poly technique, Laboratoire des Solides Irradies, CEA-DSM, CNRS, 91128 Palaiseau, France Tomsk State Pedagogical University, 634061 Kievskaya 60, Tomsk, Russia;
rnEcole Poly technique, Laboratoire des Solides Irradies, CEA-DSM, CNRS, 91128 Palaiseau, France;
rnEcole Poly technique, Laboratoire des Solides Irradies, CEA-DSM, CNRS, 91128 Palaiseau, France;
theory, models, and numerical simulation; density functional theory, local density approximation, gradient and other corrections; polarons and electron-phonon interactions; impurity and defect levels;
机译:硅基太赫兹源浅供体中心的长寿命状态
机译:重新评估
机译:使用纳米精确湿蚀刻法了解被本征氢化非晶硅薄层钝化的晶体硅的厚度依赖性有效寿命
机译:空位及其与非金属的络合物能否阻止寿命达到硅的固有极限?
机译:使用SQUID磁力计对硅中浅层施主的光磁效应和自旋晶格弛豫进行研究
机译:类似于氢的浅供体在硅纳米晶体中电子态的精细分裂
机译:半导体中浅施主电扩散的理论方法:I.固定极限
机译:少数载流子诱导硅中浅层供体的氢离解。