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ナノィンプリントリソグラフィーを用いたバイォ分析デバィスの開発

机译：使用纳米印刷光刻开发BELHY分析装置

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摘要

ナノインプリントリソグラフィー（Nanoimprint Lithography： NIL)は，微細な凹凸構造を有する金属等の铸型（モールド）をポリマー材料に圧着することで，ナノメートルサイズの構造をポリマーに転写する技術である.NILは，1995年，S.Y. Chouらによってはじめて報告された.Chouらは，Si基板上に形成した60nmの金属のドットアレイを加熱したポリマー材料であるPoly (methylmethacrylate) (PMMA)上へ圧着•離型することで.容易にポリマー材料上へ構造転写が可能であることを報告した.この手法は.現在熱ナノインプリントとして知られており，NILの主要な手法のーつとなっている.しカ、し，この手法はポリマー材料をガラス転移点以上に加温してから構造転写した後，室温付近まで冷却するための加熱/冷却サイクルが必要であり.モールドとポリマーの間に熱膨張率の差がある場合，熱応カによる転写パターンの変形等が生じるといつた課題があつた.
机译：Nanoimprint光刻（NIL）是一种通过将诸如具有细凹凸结构的金属的模具（模具）将纳米大小的结构转移到聚合物中，例如将具有细凹凸结构的金属与聚合物材料压接。零是1995年，Sy Chou等人。Chou等人。Chou等人。Chou等人。聚合物，其是形成在Si衬底上的60nm金属点阵列，POLLY（甲基丙烯酸甲酯）（PMMA）卷曲。所以，我报道了结构转录很容易对聚合物材料。该方法现在称为热纳米压印，是零的主要方法。该方法需要加热/冷却循环，以便在聚合物材料加热或之后在玻璃过渡点之后冷却到室温附近。然后将温度冷却至室温。如果在转录图案被热撞针变形时模具和聚合物之间的热膨胀率差异，则是在发生问题时的时间。

著录项

  • 来源
    《精密工学会誌》 |2020年第4期|251-254|共4页
  • 作者

    遠藤達郎;

  • 作者单位

    大阪府立大学大学院工学研究科物質•化学系専攻（大阪府堺市中区学園町1-1);

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