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編集後記

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摘要

恒例の専門香員会レビューをお届けします.まずグラビア&インタビューでは「プラナリゼーションCMPとその応用技術専門委員会」の土肥俊郎先生より,委員会の設立当初の苦労から技術の動向,産学連挽 現在の国際的な活動までお話しいただきました,同委員会には,専門委員会レビューも執筆いただきました.半導体に砥粒をかけてゴシゴシこする大胆な加工が,LSIの基幹技術となっていく課程が語られています.本委員会は,企業会員が多く,表彰も多数ある本学会屈指の実用指向の委員会です,一方でCMPのサイエンス化が不十分という,基礎研究の宝庫でもあります.
机译:我们将向您发送专业香水协会的年度评论。首先,在“凹版印刷”中,“平面化CMP及其应用技术特别委员会”的Toshiro Dohi博士谈到了该委员会成立初期的困难,技术趋势以及工业学术界持续的国际活动。该委员会还对技术委员会进行了审查。据说,将磨料颗粒施加到半导体上并将其磨擦到芯中的大胆工艺成为LSI的核心技术。该委员会是这个社会中最实用的委员会之一,拥有许多公司成员和许多奖项,但它也是CMP科学不足的基础研究宝库。

著录项

  • 来源
    《精密工学会誌》 |2012年第10期|a1-a1|共1页
  • 作者

    保坂 寛;

  • 作者单位
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  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
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