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2波閘ワンショット干渉計測

机译：两波段单次干涉

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近年，半導体や液晶など様々な産業分野において，ナノメーrnトルオーダの表面凹凸形状を精度良く測定したいという要求がrn高まってきている．光干渉を用いた表面形状測定法は，速度やrn測定精度，保守性の観点から最も有望な計測手法である．%A new surface profiling technique is proposed, which enables us to measure a surface profile without losing high frequency components of sharp edges and with extended phase measurement range. It is accomplished by a newly developed two-wavelength imaging system and the local model fitting (LMF) algorithm for carrier fringe pattern analysis. The experimental results demonstrated that the proposed method can measure steep steps fast and accurately with an extended measurement range, while the robustness against vibration in the conventional single-shot methods is maintained.
机译：近年来，在诸如半导体和液晶的各种工业领域中，对精确测量纳米级表面不规则性的需求不断增长。从速度，测量精度和可维护性的角度来看，利用光学干涉的表面形状测量方法是最有前途的测量方法。 ％提出了一种新的表面轮廓分析技术，该技术使我们能够在不丢失尖锐边缘的高频分量且扩展相位测量范围的情况下测量表面轮廓，这是通过新开发的两波长成像系统和局部模型拟合实现的（实验结果表明，该方法可以在较宽的测量范围内快速，准确地测量陡峭步长，同时保持了传统单发方法的抗振性。

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