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光放射圧を利用したナノCMMマイクロプローブ

机译:使用光辐射压力的纳米CMM微探针

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摘要

基準寸法がミリメートルオーダの微小部品や1mmよりrnも小さいマイクロ部品は,従来製品を単に小型化するだけrnではなく,これまでにない機能が実現できる可能性を有しrnている.しかしながら,このようなマイクロ部品のより高rn次な潜在能力を引き出すためには,3次元のマイクロ形状rnをナノメートルオーダの精度で自由自在に創り出せる技術rnが必要であり,そのためにはナノメートルオーダの精度でrn制御された加工および計測技術と,それらを高度に融合すrnる新しい概念の加工計測システム技術の開発が必要不可欠rnである.
机译:标准尺寸在毫米量级的微型零件和rn小于1 mm的微型零件不仅具有减小传统产品尺寸的潜力,而且具有实现前所未有的功能的潜力。然而,为了展现出这种微部件的更高的rn级潜力,需要一种可以自由地以纳米级的精度创建三维微形状rn的技术rn。发展以rn为单位精度的rn控制的加工和测量技术是必不可少的,而加工和测量系统技术的新概念将它们高度集成在一起。

著录项

  • 来源
    《精密工学会誌》 |2008年第3期|230-234|共页
  • 作者

    高谷裕浩;

  • 作者单位
  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类
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