• 主题
高级搜索  >
历史搜索 清空历史
首页> 外文期刊>电波新闻 >支える半導体製造ホロンフォトマスクの線幅測定高分解能の走査型電子顕微鏡
【24h】

支える半導体製造ホロンフォトマスクの線幅測定高分解能の走査型電子顕微鏡

机译：半导体制造HoloNe照片掩模线宽度测量高分辨率扫描电子显微镜

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           
页面导航
  • 摘要
  • 著录项
  • 相似文献
  • 相关主题

摘要

回路パターンをウエハー上に転写する際に使用されるマスク(レチクル)。その原版の寸法を測定するのがホロンのCD-SEM(測長用走査型電子顕微鏡)だ。マスクメーカーで線幅測定に使用される。研究用と違い、生産設備で使うSEMは対象物を非破壊で高速に測る必要がある。
机译：用于在晶片上传送电路图案的掩模（掩模版）。 它是一个Holon CD-SEM（测量扫描电子显微镜），以测量原始板的尺寸。 面罩制造商用于线宽测量。 与研究不同，生产设施中使用的SEM需要高速测量物体，无损。

著录项

  • 来源
    《电波新闻》 |2021年第18233期|7-7|共1页
  • 作者

  • 作者单位
  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类
  • 关键词

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

  • 客服微信

  • 服务号