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「 H-Xシリーズ」「プラズマクラスター」進化高濃度イオンで消臭·除菌を実現

机译:“ H-X系列”和“等离子簇”的发展实现高浓度离子的除臭和杀菌

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摘要

シャープは独自の空気浄化技術「プラズマクラスター」をさらに進化させ、プラズマクラスター25000の約2倍(約5万個/立方センメー チトル)となる高濃度イオンの放出が可能な新開発「第10世代イオン発生デバイス」を用いた「プラズマクラスターNEXT」搭載のルームエアコン「H-Xシリーズ」(2.218.OkW)を今月25日から発売する。
机译:夏普进一步发展了自己的空气净化技术“等离子簇”,这是一种新开发的“第十代离子”,能够释放高浓度离子,约为等离子簇25,000(约50,000件/立方感)的两倍。配备有使用“发电装置”的“ Plasmacluster NEXT”的房间空调“ HX系列”(2.218.OkW)将从本月25日起发布。

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    《电波新闻》 |2018年第17339期|5-5|共1页
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