首页> 外文期刊>电波新闻 >直接描画露光装置を発売業界最高水準のスループット
【24h】

直接描画露光装置を発売業界最高水準のスループット

机译:推出直接书写曝光系统,业界最高的吞吐量

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

SCREENセミコンダクターソリューションズは、業界最高水準の解像度で70枚時の処理を実現する直接描画露光装置「DW-6000」を開発した。パネル状の支持体を使って製造するFOPLP向けの「DWシリーズ高性能モデル」として今月、販売を開始する。
机译:SCREEN Semiconductor Solutions开发了直接书写曝光系统“ DW-6000”,该系统可实现业内最高分辨率的70张纸的处理。该产品将从本月开始销售,它是使用面板形支撑件制造的FOPLP的“ DW系列高性能型号”。

著录项

  • 来源
    《电波新闻》 |2017年第17182期|2-2|共1页
  • 作者

  • 作者单位
  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类
  • 关键词

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号