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ニコン 最新型ArF液浸スキャナ 7ナメーノトルプロセス半導体量産用

机译:尼康最新的ArF浸入式扫描仪7用于Namenotor Process Semiconductor量产

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摘要

ニコンは最新型ArF(フッ化アルゴン)液浸スキャナ「NSR-S631E」を発売した。半導体の高集積化·微細化の進展に伴い、最先端の半導体回路線幅は、10ナノ(10億分の1)メートルノードの量産および7ナメーノトルノードの開発へと移行している。ウエハー上に光を使って電子回路を形成する露光装置で、露光を繰り返すマルチパターニング法は高い重ね合わせ精度と高生産性が要求されている。
机译:尼康发布了最新的ArF(氟化氩)浸没式扫描仪“ NSR-S631E”。随着半导体的高度集成和小型化的发展,最新的半导体电路线宽正转向批量生产10纳米(1/10亿米)节点和7节点的发展。在使用光在晶片上形成电子电路的曝光设备中,重复曝光的多图案化方法需要高的覆盖精度和高的生产率。

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  • 来源
    《电波新闻》 |2016年第16860期|2-2|共1页
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