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EUVリソグラフィ研究開発に5年間5億ドル投資 米GF、NY州立工大と共同で

机译:与GF和NY State Tech共同投资5亿美元,为期5年的EUV光刻研发

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摘要

半導体受託生産大手の米グローバルファウンドリーズ(GF)はこのほど、ニューヨーク州立工科大学(SUNY Poly)と共同で、次世代半導体製造技術であるEUV(極端紫外線)リソグラフィの早期実に向けた研究開発に、今後5年間で5億ドルを投じると発表した。
机译:全球主要的半导体代工制造公司Global Foundry(GF)现在与纽约州理工学院(SUNY Poly)合作进行研发,以尽早实现下一代半导体制造技术-EUV(极紫外)光刻。它宣布将在五年内投资5亿美元。

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    《电波新闻》 |2016年第16860期|2-2|共1页
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