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東芝 3次元フラッシュ生産拡大 四日巿工場新棟、来年2月着工

机译:东芝3D闪存生产的扩大Yokkatsumi工厂的新建筑,明年二月开工

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摘要

東芝は8日、3月に決定した3次元フラッシュメモリーの生産拡大を目的とした四日市工場(三重県四日市市)の新製造棟建設について、17年2月に着工すると発表した。この新製造棟では、従来のシリコン平面上にフラッシュメモリー素子を並べたNAND構造ではなく、シリコン平面から垂直方向にフラッシュメモリー素子を積み上げ、素子密度を大幅に向上した構造のメモリー(BiCS FLASH)専用の製造工程を行う予定。
机译:东芝公司于8月8日宣布,它将于2017年2月开始在四日市工厂(三重县四日市市)建造一座新的制造工厂,以扩大3月份决定的3D闪存的生产。在这个新的制造工厂中,取代了将闪存元件布置在硅平面上的常规NAND结构,闪存元件从硅平面垂直堆叠,并且专用于具有显着提高的元件密度的结构的存储器(BiCS FLASH)。将执行制造过程。

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    《电波新闻》 |2016年第17040期|3-3|共1页
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