...
首页> 外文期刊>Semiconductor FPD World >Cymer,EUV露光光源技術の開発動向高スループットを可能にする高出力光源出荷開始,EUV技術確立を見据えたロードマップ
【24h】

Cymer,EUV露光光源技術の開発動向高スループットを可能にする高出力光源出荷開始,EUV技術確立を見据えたロードマップ

机译:Cymer,EUV曝光光源技术发展趋势开始实现高吞吐量的高功率输出光源出货,EUV技术建立的路线图

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

次世代22nmノードの露光技術は,EUVまたはrnDP技術延命に絞られてきた。仮に11年末までにrnEUVの要素技術が確立されれば,12年からrnNANDフラッシュの量産を筆頭に,近未来的にrnEUVが最先端の露光技術としての立場を確立するrnと考えられる。本稿ではCymerのEUV露光装置用rn光源開発の淵犬をアップデートし,市場の要求シナrnリオに合った開発ロードマップを示す。
机译:下一代22nm节点曝光技术已集中在EUV或rnDP技术上。如果rnEUV的基本技术在2011年底之前建立,则可以认为rnEUV将在不久的将来确立最先进的曝光技术的地位,rnNAND闪存的量产将从2012年开始。在本文中,我们更新了Cyborg的小狗,用于为EUV曝光设备开发rn光源,并显示了满足市场需求的开发路线图。

著录项

  • 来源
    《Semiconductor FPD World》 |2009年第6期|46-47|共2页
  • 作者

    大賀敏浩;

  • 作者单位

    サイマ一戦略マーケテイング;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类
  • 关键词

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号