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【24h】

TFT-LCD製造における洗浄技術の最新動向に迫るTFT-LCD洗浄装置に求められる要求事項と洗浄技術としてのブレークスルーに向けた要素技術とは

机译:TFT-LCD生产中清洁技术的最新趋势,对TFT-LCD清洁设备的要求和作为清洁技术突破的基本技术。

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摘要

TFT-LCD製造工程において洗浄技術は,製品の品質を大きく左右し,歩留りに代表苦れる生産性と環境負荷への影響が大きい工程である。ここでは,まずTFT-LCD製造工程における洗浄技術,洗浄方式を概説する。洗浄装置に求められる要求事項を取り上げるとともに,LTPS-TFTアレイ工程での汚染物が特性に与える影響とその原因を述べる。そのことで,いかに洗浄技術が重要であるかの理解が深まると考える。洗浄装置には,これまで以上の技術革新が求められるとともに,フットプリントの削減,装置のコストダウン,薬液使用量の削減など,要求基準は高度化している。最後に,洗浄技術としてのブレークスルーに向けた要素技術を紹介する。
机译:在TFT-LCD制造过程中,清洁技术是一种会极大影响产品质量的过程,并且会对生产率和环境负荷产生重大影响,而这通常很难实现。在此,我们首先概述TFT-LCD制造过程中的清洁技术和清洁方法。讨论了清洁设备的要求,并描述了LTPS-TFT阵列工艺中污染物对特性及其原因的影响。我认为这将有助于加深我们对清洁技术的重要性的理解。除了清洁设备需要不断增加的技术创新外,需求标准也越来越复杂,例如减少占地面积,降低设备成本和减少化学溶液的使用。最后,我们将介绍突破性的基本技术,即清洁技术。

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