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【24h】

ナノインプリント用樹脂技術の動向試験用樹脂では高い特性を実現各種プロセス用途でも着実に改良が進む

机译:纳米压印树脂技术的趋势在测试树脂中实现高特性在各种工艺应用中不断改进

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摘要

ナノインプリントリソグラフイ(NIL:Nanoimprint Lithography)は半導体微細加工ロードマップITRSの03年版で有力な次世代加工技術として位置付けられ,半導体分野をはじめストレージメディア,バイオ,光学部材など,さまざまな分野において研究開発がなされている。他の微細加工技術と比較してステッパやEB描画装置といった高額な装置を要さず,プロセスが単純であることから低コストかつ量産プロセスへの適用性が高いという利点を有する。
机译:纳米压印光刻(NIL)在2003年版的半导体微细加工路线图ITRS中被定位为领先的下一代处理技术,并且正在半导体领域,存储介质,生物技术和光学材料等各个领域进行研究和开发。已经完成。与其他微细加工技术相比,它不需要昂贵的设备,例如步进机或EB光刻系统,并且具有成本低廉和对批量生产过程具有高度适用性的优点,因为该过程简单。

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