...
首页> 外文期刊>半導体産業新聞 >年度内に裝置利用率50%ヘ MEMSデバイス試作に成功 ミニマルファブ構想 待たれるCVD•イオン注入装置
【24h】

年度内に裝置利用率50%ヘ MEMSデバイス試作に成功 ミニマルファブ構想 待たれるCVD•イオン注入装置

机译:MEMS设备的成功原型,可在一年内将设备利用率提高50%最小的Fab概念期待已久的CVD /离子注入

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

「ミニマルファブ」は、0.5インチのウエハー、超小型の装置群を用いることで、1フインあたりの投資額をメガファブの1000分の1程度に低減し、かつ多品種少量ニーズという巨大市場に柔軟に対応する生産技術だ。7月3日に開催された関連シンポジウムでは、ビジネスモデルについての提言がなされるなど、実用化に向けた期待値は非常に高い。一方で、多くの装置は試作機開発の初期段階にあり、イオン注入装置やCVD装置はこれからプロトタイプ機ができるというレべルにある。すべての装置が出揃うにはあと数年を要すると見られる。
机译:“最小晶圆厂”使用0.5英寸晶圆和超小型设备将每条鳍片的投资额减少到大型晶圆厂的1/1000左右,并灵活地应对庞大的高混合量小批量需求市场。它是一种相应的生产技术。在7月3日举行的相关座谈会上,提出了有关商业模式的建议,并且对实际应用的期望很高。另一方面,许多设备处于原型开发的早期阶段,并且离子注入设备和CVD设备处于能够制造原型设备的水平。所有设备都需要花费几年的时间。

著录项

  • 来源
    《半導体産業新聞》 |2013年第7期|1-1|共1页
  • 作者

  • 作者单位
  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号