机译:铃木的通用微打印方法和XeF_2气相蚀刻法制备的用于微生物分析的赛璐璐微外壳和微透镜阵列
Semiconductor and MEMS Processing Division, Technical Department, Tokyo Institute of Technology, 4259 Nagatsuta, Yokohama, Kanagawa 226-8503, Japan;
Biomaterials Analysis Division, Technical Department, Tokyo Institute of Technology, 4259 Nagatsuta, Yokohama, Kanagawa 226-8501, Japan;
single-cell isolation; microenclosure; microlens; XeF_2; SUMP method;
机译:使用XeF_2增强聚焦离子束刻蚀制造的叉指式50 nm Ti电极阵列
机译:XeF_2气相刻蚀使用Kohler照明对凹形微镜进行微生物细胞捕获的微细加工
机译:使用XEF_2蒸气蚀刻使用Kohler照明微生物细胞捕获微生物的微细胞
机译:PtSi IRCCD离子束刻蚀制备的128x128元素硅微透镜阵列
机译:飞秒激光辅助化学刻蚀制造的用于液体折射率传感的准周期凹微透镜阵列
机译:通过Sump方法和XeF2蒸气蚀刻制造的纤维素微晶和微液体阵列进行微生物分析