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EPMA-8050Gの開発: EPMAへのフィールドエミッション電子銃搭載

机译：EPMA-8050G的开发：配备用于EPMA的场发射电子枪

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摘要

Analytical observations with SEM-EDS instruments have become widespread, complementing conventional SEM morphology observations. However, there are cases where SEM-EDS sensitivity is not satisfactory, and EPMA measurement with its highly quantitative/sensitive WDS spectrometers is a better choice. A drawback with EPMA compared with SEM is its relatively poor spatial resolution. EPMA requires much a higher beam current than SEM for trace element analysis, which makes it difficult to form a very fine electron probe. We have developed a new generation EPMA, the EPMA-8050G, which incorporates Field Emission (FE) electron optics in order to dramatically improve spatial resolution. In this article, the electron optics technology of EPMA-8050G will be explored. Its FE optics has been optimized for the high-beam-current operations required for EPMA applications. Several application results that show the high-sensitivity/high-spatial-resolution capability of the EPMA-8050G will also be presented.%SEM(Scanning Electron Microscope：走査型電子顕微鏡)では形態観察のみならずEDS(Energy Dispersive X-ray Spectrometer：エネルギー分散型X線分光器)を用いた微小領域元素分析が広く行われている。しかしその検出感度は低く，WDS(Wavelength Dispersive X-ray Spectrometer：波長分散型X線分光器)を用い検出限界，定量精度に優れるEPMA(Electron Probe Microanalyzer：電子線マイクロアナライザ)での分析が望まれる分野は多い。EPMAの課題はSEMと比べて見劣りする空間分解能であった。微量元素分析には大ビーム電流を必要とするため，微小プローブを形成することが技術的に困難であった。この課題を克服するためFE(フィールドエミッション陰極)電子光学系を搭載したEPMA-8050Gを開発した。本稿では1マイクロアンペアレベルの大ビーム電流での微小プローブ形成というEPMA特有の要求に応える電子光学設計技術についての解説と，EPMA-8050Gによってはじめて可能となった高感度/高空間分解能マッピング分析例の紹介を行う。
机译：用SEM-EDS仪器进行的分析观察已经变得很普遍，是对常规SEM形态学观察的补充。但是，在某些情况下SEM-EDS灵敏度不能令人满意，因此使用具有高度定量/灵敏度的WDS光谱仪进行EPMA测量是一个更好的选择。与SEM相比，EPMA的缺点是其相对较差的空间分辨率。对于微量元素分析，EPMA需要比SEM高得多的束电流，这使得很难形成非常精细的电子探针。我们已经开发了新一代EPMA EPMA-8050G，它集成了场发射（FE）电子光学器件，以显着提高空间分辨率。本文将探讨EPMA-8050G的电子光学技术。其FE光学器件已针对EPMA应用所需的远光电流操作进行了优化。还将展示一些表明EPMA-8050G具有高灵敏度/高空间分辨率功能的应用结果。％SEM（扫描电子显微镜：走查型电子顕微镜）では形态観察のみならずEDS（能量色散X-射线光谱仪：エネルギー分散型X线分光器）を用いた微小领域元素分析が広く行われている。しかしその検出感度は低く，WDS（波长分散型X射线光谱仪：波长分散型X线分光器）を用电子検微分析仪：电子线マイクロアナライザ）での分析マ望まれる分野は多い。大稿ーム电流を必要とするため，微小プローブを形成することが技术的に困难であった。では1マイクロアンペアレベルの大ビーム电流での微小プローブ形成というEPMA特有の要求に応える电子光学设计技术についての解说と，EPMA-8050Gによってはじめて可能となった高感度/高空间分解能マッピング分析例の绍介を行う。

著录项

  • 来源
    《島津評論》 |2015年第4期|179-193|共15页
  • 作者

    藤田　真; 坂前　浩; 林　広司;

  • 作者单位

    分析計測事業部　技術部;

    分析計測事業部　X線/表面ビジネスユニット;

    分析計測事業部　X線/表面ビジネスユニット;

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