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【24h】

低迷光回折格子「ローレライ（LO-RAY-LIGHTM)」の開発

机译：低杂散光衍射光栅“ LO-RAY-LIGHTM”的开发

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著者らは，回折格子由来の迷光原因の究明と，その迷光の値を低減させるために，回折格子の仕様（サイズ・ 溝本数・プレーズ波長等）を闘わず，単体で測定が可能なレーザ式迷光測定装置を開発した。この測定装置を 使った迷光測定が，実際の分光装置による迷光と相関があることが確認できた。そこで，この測定装置を回折 格子製造工程に用いることで，各工程段階での迷光値の定量測定が可能となり，何が迷光に影響を与えるか数 値でわかるようになった。その結果，製造工程中の露光工程とエッチング工程が迷光に大きく影響を与えるこ とを見出し，この二工程を重点的に調査し，迷光億を評価尺度とし製造工程にフィードバックすることで，新 たに独自の露光工程の工法を開発した。また，同時にエッチング工程の最適化を行った結果，迷光をきわめて 小さくすることに成功し，世界最高水準の低迷光特性と高効率を併せ待った低迷光回折格子「ローレライ（LO- RAY-LIGHTM）」の開発に成功した。%Low stray light diffraction gratings were developed by using our laser stray light measuring system. The stray light measured with the measuring system proved to correlate with that measured with a spectroscope. The use of the measuring system in the process of manufacturing low stray light diffraction gratings made quantitative measurement of stray light possible, which led to our knowledge of the exposure process and the etching process which have much effect on stray light. The measurement results were fed back to these processes to develop our own exposure method. Furthermore, the etching process was optimized. These led to the exceptionally low stray light level diffraction gratings named LO-RAY-LIGH™, which provide the world''s highest efficiency level as well.
机译：作者研究了来自衍射光栅的杂散光的产生原因并降低了杂散光的值，这种激光方法本身可以使用而不会与衍射光栅的规格（尺寸，凹槽数量和激光波长等）产生冲突。开发了杂散光测量装置。确认了使用该测量装置的杂散光测量与来自实际光谱装置的杂散光相关。因此，通过在衍射光栅的制造工序中使用该测定装置，能够定量地测定各工序中的杂散光值，并且能够从数值上理解影响杂散光的因素。结果发现，制造过程中的曝光过程和蚀刻过程对杂散光影响很大，通过对这两个过程进行深入研究，并将杂散光作为制造过程的评估尺度进行反馈，已经开发出独特的曝光工艺方法。同时，通过优化蚀刻工艺，我们成功地极大地减少了杂散光，并实现了世界最高水平的低杂散光特性和高效率。已成功开发。 ％低杂散光衍射光栅是通过使用我们的激光杂散光测量系统开发的，该测量系统测得的杂散光与分光镜测得的杂散光相互关联。该测量系统在制造低杂散光衍射的过程中的使用光栅使对杂散光的定量测量成为可能，这使我们了解了对杂散光有很大影响的曝光过程和蚀刻过程。将测量结果反馈给这些过程以开发我们自己的曝光方法。工艺得到了优化。这导致了名为LO-RAY-LIGH™的超低杂散光级衍射光栅，该光栅也提供了世界上最高的效率水平。

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