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机译:使用静态锁存器和双极性电压可编程反熔丝电路的高密度DRAM封装后位修复方案
DRAM chips; MOS capacitors; integrated circuit layout; integrated circuit packaging; integrated circuit yield; maintenance engineering; programmable circuits; redundancy; 0.16 micron; 256 Mbit; antifuse EPROM structure; antifuse circuit layout area; bipolar programm;
机译:用于DRAM现场可编程修复的反熔丝EPROM电路方案
机译:用于在DRAM中进行现场可编程修复的反熔丝EPROM电路方案
机译:具有先进CMOS逻辑电路的可编程触点的新型反熔丝单元
机译:使用静态锁存器和双极性电压可编程反熔丝电路的高密度DRAM封装后位修复方案
机译:关于支持软件演化:基于程序的静态和动态分析的自动分解方案。
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