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机译:热退火对雾化器喷射沉积的硫化锡薄膜的影响及其在透明氧化物/ CdS / SnS异质结构中的应用
Arul Anandar Coll, PG & Res Dept Phys, Karumathur 625514, Madurai, India;
Arul Anandar Coll, PG & Res Dept Phys, Karumathur 625514, Madurai, India;
SASTRA Univ, Sch Elect & Elect Engn, Multifunct Mat & Devices Lab, Anusandhan Kendra 2, Tirumalaisamudram 613401, Thanjavur, India;
Dongguk Univ Seoul, Millimeter Wave Innovat Technol Res Ctr MINT, Seoul 04620, South Korea;
Vacuum annealing; Surface morphology; Hall effect measurement; Heterojunction; Solar cell efficiency;
机译:喷雾通量密度和真空退火对使用简化喷雾技术沉积的双掺杂(Sn + F)氧化锌薄膜的透明导电性能的影响
机译:喷雾器喷雾热解(NSP)的SNS(FTO / CDS / SNS)薄膜进行太阳能电池应用的发展
机译:衬底温度对雾化器喷雾热解沉积CdSnSe薄膜性能的影响
机译:锡掺杂的β-In
机译:氧化铟基透明导电氧化物薄膜的金属有机化学气相沉积:前体合成,膜生长和表征及其在聚合物发光二极管器件中的应用。
机译:通过浸涂和超声波喷雾热解方法沉积的未掺杂和镍掺杂的氧化锌薄膜用于丙烷和一氧化碳传感应用
机译:ZnO薄膜和Ga掺杂ZnO薄膜的表征在透明导电施加时退火
机译:Cd2snO4透明导电氧化物在Cds / CdTe薄膜器件中的应用