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机译:脉冲激光沉积Cu_2SnS_3光吸收薄膜的结构,电学和光学性质:实验与计算研究相结合
Indian Inst Technol Delhi, Dept Phys, Thin Film Lab, New Delhi 110016, India;
Thapar Inst Engn & Technol, Sch Phys & Mat Sci, Patiala 147004, Punjab, India;
Indian Inst Technol Delhi, Dept Phys, Thin Film Lab, New Delhi 110016, India;
Indian Inst Technol Delhi, Dept Phys, Thin Film Lab, New Delhi 110016, India;
Thin films; Pulsed laser deposition; Optical properties; Annealing; Density functional theory; Raman spectroscopy;
机译:激光脉冲能量对脉冲激光沉积Ga掺杂ZnO薄膜的结构,光学和电学性质的影响
机译:脉冲激光沉积(PLD)技术在不同掺杂比下沉积(LixNi2-xO2)薄膜的结构和光学性质
机译:脉冲激光沉积(PLD)技术在不同退火温度下沉积的PbS薄膜的结构和光学性质
机译:各种激光脉冲能量下脉冲激光沉积ZnO薄膜的结构,表面形态和光学性能
机译:用于光伏应用的脉冲激光沉积Cu2ZnSnS 4(CZTS)薄膜的实验研究。
机译:飞秒脉冲激光沉积TiO2薄膜的相变形貌光学和电学性质
机译:各种激光脉冲能量下脉冲激光沉积ZnO薄膜的结构,表面形态和光学性能