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机译:在大气压下使用非热等离子体射流进行液体辅助等离子体增强的化学气相沉积
Leibniz Inst Plasma Sci & Technol eV, Felix Hausdorff Str 2, D-17489 Greifswald, Germany;
Leibniz Inst Plasma Sci & Technol eV, Felix Hausdorff Str 2, D-17489 Greifswald, Germany;
CAS, Inst Sci Instruments, Vvi, Kralovopolska 147, Brno 61264, Czech Republic;
CAS, Inst Sci Instruments, Vvi, Kralovopolska 147, Brno 61264, Czech Republic;
Masaryk Univ, CEITEC Cent European Inst Technol, Kamenice 753-5, Brno 62500, Czech Republic|Masaryk Univ, Fac Sci, Dept Phys Elect, Kotlarska 2, CS-61137 Brno, Czech Republic;
Leibniz Inst Plasma Sci & Technol eV, Felix Hausdorff Str 2, D-17489 Greifswald, Germany;
Plasma jet; Liquid assisted plasma enhanced chemical vapour deposition; Silicon oxide; Hexamethyldisiloxane; Octamethyltetrasiloxane; Tetrakis(trimethylsilyloxy)silane;
机译:大气压等离子体液体沉积和大气压等离子体增强化学气相沉积沉积的聚乙二醇薄膜:工艺,化学组成分析和生物相容性
机译:大气压下非热等离子体射流对ZnO薄膜进行等离子体增强化学气相沉积的研究
机译:大气压等离子体射流在大气压等离子体下增强电致变色有机镍氧化物薄膜的化学气相沉积
机译:大气压等离子体增强化学气相沉积(AP-PECVD)沉积大面积SiO_2薄膜:表面表征的生长机理
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机译:直流和射频等离子体射流的大气压等离子体沉积有机硅薄膜
机译:在大气压下使用非热等离子体射流进行液体辅助等离子体增强的化学气相沉积
机译:等离子体在等离子体增强化学气相沉积纳米结构生长中的作用