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Surface modification of polyimide with excimer UV radiation at wavelength of 126 nm

机译：用准分子紫外辐射在126 nm波长下对聚酰亚胺进行表面改性

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We report the achievement of large area surface modification of polyimide (PI) films by using an excimer lamp at 126 nm. Analysis of the morphology changes and composition of the polymer surface was carried out via SEM, AFM and XPS techniques. SEM and AFM results show that the roughness of the polymer surface increases drastically after a very short UV exposure time, and the morphology change produced by the 126 nm UV lamp is much larger and more efficient than that by 172 nm UV radiation. XPS results suggest that photo-dissociation of imide groups in PI occurs during the 126 nm UV radiation.
机译：我们报告了通过使用在126 nm的准分子灯对聚酰亚胺（PI）薄膜进行大面积表面改性的成果。通过SEM，AFM和XPS技术对聚合物表面的形态变化和组成进行分析。 SEM和AFM结果表明，在非常短的紫外线曝光时间后，聚合物表面的粗糙度急剧增加，并且126 nm紫外线灯所产生的形貌变化比172 nm紫外线辐射所产生的形貌变化要大得多且效率更高。 XPS结果表明，在126 nm紫外线辐射期间，PI中的酰亚胺基发生了光解离。

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