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編集後記

机译:编者注

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摘要

本号の小特集は「半導体表面における極薄膜形成プロセス」第二弹をお届けします.私は昨年12月より編集委員を担当させていただくことになりました.これまで超高真空装置を利用して主に金属表面における水素の吸着•吸蔵,表面化学反応,薄膜成長などの研究を行ってきましたが,このような編集の仕事は初めてであり,先日初めて参加した編集委員会ですでに真空分野の広さに驚いています.
机译:本期特刊是第二篇文章“在半导体表面上形成超薄膜的过程。”自去年12月以来,我一直担任编委会的职务。我主要使用氢在金属表面,表面化学反应,薄膜生长和其他研究中吸附和吸收氢,但这是我做过的第一篇编辑工作。我对真空场的大小感到惊讶。

著录项

  • 来源
    《真空》 |2015年第2期|72-72|共1页
  • 作者

    小倉正平;

  • 作者单位
  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类
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