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c-BN膜形成装置

机译:c-BN膜形成装置

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摘要

We developed mass product type c-BN thin films coating equipment for cutting tool. Our coating method is magnetically enhanced plasma ion plating (MEP-IP).Distinction of our coating system have 100 kHz of substrate power supply frequency and stabilized plasma source for insulated c-BN coating. With these distinctions, c-BN thin film didn't peel from substrate and composition of c-BN thin film became stable.The c-BN film by using this equipment has practical deposition rate 1.0 μm/h, high hardness 4000 HK, low friction coefficient 0.17, and high performance of cutting property.%窒化ホウ素は,高硬度,高耐熱性を持つc-BN,高温でのrn潤滑特性に優れるh-BN等の結晶構造を持つ.c-BN結晶をrn用いた焼結体は,近年積極的に耐熱部品,高能率工具に利用rnされるようになっている.c-BN焼結体工具は,高硬度材料rnを切削加工するときに能力を発揮し,長寿命工具として認識rnさわている.
机译:我们开发了用于切割工具的量产型c-BN薄膜镀膜设备。我们的镀膜方法是磁增强等离子体离子镀(MEP-IP)。我们的镀膜系统的区别是具有100 kHz的基板电源频率和稳定的等离子体源用于绝缘c-BN涂层。由于这些区别,c-BN薄膜没有从基材上剥离,并且c-BN薄膜的成分变得稳定。使用此设备的c-BN薄膜的实际沉积速率为1.0μm/ h,高硬度4000 HK,低摩擦系数0.17,切削性能高。%氮化硼具有高硬度,高耐热性的c-BN和高温下rn润滑特性良好的h-BN等晶体结构。 。近年来,使用c-BN晶体的烧结体已被积极地用于耐热部件和高效工具。 c-BN烧结体工具在切削高硬度材料rn时发挥其能力,被认为是长寿命的工具。

著录项

  • 来源
    《真空》 |2008年第7期|499-504|共6页
  • 作者

    野間正男;

  • 作者单位
  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类
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