首页> 外文期刊>Радиотехника >Влияние глубоких уровней в буферном слое на характеристики транзисторов и малошумящих усилителей при воздействии импульсов
【24h】

Влияние глубоких уровней в буферном слое на характеристики транзисторов и малошумящих усилителей при воздействии импульсов

机译:缓冲层中的深层暴露于脉冲时对晶体管和低噪声放大器的特性的影响

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

Оценены характерные глубины ионизации и времена перезарядки глубоких уровней в малошумящих полевых транзисторах при подаче на их вход импульса мощности в зависимости от параметров транзистора, мощности импульса и сечений захвата электронов. Предложена простая методика по оценке изменения коэффициента шума транзистора в рабочем режиме под воздействием зондирующих импульсов СВЧ-мощности на входе по изменению коэффициента усиления тока стока. На основании измерений проведены оценки для группы транзисторов, Продемонстрировано, что в некоторых случаях коэффициент шума транзистора под воздействием импульса допустимой входной мощности может увеличиваться более чем вдвое, По полученным оценкам и экспериментальным данным рассчитано влияние паразитной проводимости по буферному слою на характеристики малошумящих транзисторных усилителей при униполярном и двухполярном питании.
机译:根据晶体管的参数,脉冲功率和电子俘获截面,可估算出低噪声场效应晶体管在输入功率脉冲时的电离特性深度和深能级的充电时间。提出了一种简单的技术,用于根据漏极电流增益的变化在输入端探测微波功率脉冲的影响,评估工作模式下晶体管的噪声系数变化。基于这些测量,对一组晶体管进行了估算。和双相营养。

著录项

获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号