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アスペクト比を10に高めたナノインプリントの新技術

机译:纵横比为10的新型纳米压印技术

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摘要

共同インターナショナル(川崎市宮前区、池田謙伸社長)は、ナノインプリントにおける高アスペクト比パターンの転写技術を開発、受託加工を始めた。金型の離塑処理の最適化と微細洗浄の技術を融合tた技術で、従来手法では穴径と深さの比率を示すアスペクト比が2~5だった再現性を10に高めた。価格は材料、大きさ、軽易度などで決める。
机译:共同社(川崎市宫前区池田贤信社长)开发了一种用于纳米压印中高纵横比图案的转印技术,并已开始进行合同处理。该技术结合了模具拆卸加工的优化和精细清洗技术,并且将表示孔直径与深度之比的纵横比的重现性从2提高到5。价格由材料,尺寸和易用性决定。

著录项

  • 来源
    《工業材料》 |2009年第10期|共1页
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  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类 工程材料学;
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