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机译：化学气相沉积

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CVD（ChemicaI Vapor Deposition）は化学的気相成長のほか、化学気相合成、化学気相成長、化学的気相堆（たい）積、場合によっては化学蒸着、化学気相メッキとも訳される薄膜形成法。 1種類あるいは複数の原料ガスを基材付近に導入し、何らかのエネルギーを与えることによって、基材の近傍や表面上で化学反応を起こし、希望する物質を基村上に堆積させ、薄膜化する（Fig1）。

机译：CVD（化学气相沉积）是一种薄膜，可翻译为化学气相生长，化学气相合成，化学气相生长，化学气相堆叠，在某些情况下还包括化学气相沉积和化学气相镀覆。形成方法。通过在基材附近引入一种或多种原料气体并提供一些能量，在基材附近或表面会发生化学反应，所需的物质会沉积在基材上，使其变薄（图1）。）。

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《日经ナノビジネス》 |2005年第253期|共1页
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正文语种 jpn
中图分类工业技术;
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