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首页> 外文期刊>日本结晶学会志 >Vacuum-Ultraviolet Transparency of Silica Glass and its Interaction with Vacuum-Ultraviolet Lasers
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Vacuum-Ultraviolet Transparency of Silica Glass and its Interaction with Vacuum-Ultraviolet Lasers

机译：二氧化硅玻璃的真空紫外线透明度及其与真空 - 紫外光激光器的相互作用

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Silica glass is a promising optical material in the deep-ultraviolet (DUV, approx 4.1-6.2 eV or approx 300-200 nm) to vacuum-ultraviolet (VUV, > approx 6.2 eV or < approx 200 nm) region since its optical band gap is located at approx 8 eV. For such a purpose, it is crucial to control its band-edge transparency and optical resistivity against the intense laser radiation of DUV-VUV excimer lasers (KrF; 5.0 eV or 248 nm, ArF; 6.4 eV or 193 nm, F_2; 7.9 eV or 157 nm). The present article reviews our recent studies on silica glasses irradiated with DUV-VUV excimer lasers, including several topics of the improvement of optical transparency by introducing Si-F terminals, the photostructural change of SiOH groups, the formation and annealing kinetics of laser-induced point-defects involving the role of hydrogen, and the application of F-doped glasses to DUV optical fibers.
机译：二氧化硅玻璃是深度紫外（DUV，约4.1-6.2eV或约300-200nm）的有希望的光学材料，自光学带隙以真空 - 紫外线（VUV，>约6.2eV或<约200nm或<约200nm）区域 位于大约8eV。 为此目的，对Duv-Vuv准分子激光激光辐射的强烈激光辐射来控制其带边缘透明度和光学电阻率至关重要（KRF; 5.0eV或248nm，ARF; 6.4eV或193nm，f_2; 7.9ev 或157 nm）。 本文审查了我们最近关于用DUV-VUV准分子激光照射的硅胶的研究，包括通过引入Si-F末端，SiOH组的光图变化，激光诱导的形成和退火动力学来改善光学透明度的若干主题 涉及氢的作用的点缺陷，以及将F掺杂眼镜施加到DUV光纤中的应用。

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