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CVD

机译:CVD.

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摘要

CVD(ChemicaI Vapor Deposition)は化学的気相成長のほか、化学気相合成、化学気相成長、化学的気相堆(たい)積、場合によっては化学蒸着、化学気相メッキとも訳される薄膜形成法。 1種類あるいは複数の原料ガスを基材付近に導入し、何らかのエネルギーを与えることによって、基材の近傍や表面上で化学反応を起こし、希望する物質を基村上に堆積させ、薄膜化する(Fig1)。
机译:CVD(Chemicai气相沉积)除了化学气相沉积,化学气相合成,化学气相沉积,化学气相沉积(如)。形成方法。 在基板附近引入一个或多个源气体并产生一些能量,导致基板的附近或表面上的化学反应,并且在基础上沉积所需的物质并稀释(图1)。

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