Рассмотрено окисление поликриеталлических пленок Си под воздействием окружающей атмосферы в течение длительного периода времени (от 20 до 90 дней). Показано, что у пленок Си толщиной 10 нм, осажденных на подложки из стекла методом магнетронного распыления, со временем наблюдается увеличение прозрачности, поверхностного сопротивления и щсроховатости поверхности, а также снижение отражения в области ближнего ИК-диапазона. При этом наибольщие изменения происходят в пленках, осажденных в импульсном режиме распыления с частотой 3 кГц по сравнению с пленками, нанесенными в режиме постоянного тока. Формирование подслоя ZnO:Л1 и верхнего пассивирующего слоя ZnO:A1 толщиной 20 нм позволяет эффективно предотвращать окисление тонких пленок меди под воздействием окружающей атмосферы.
展开▼
