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【24h】

マイクロバブル技術を活用した洗浄技術開発:オゾンやアルカリ系溶液とマイクロバブルを組み合わせた洗浄技術

机译:使用微泡技术的清洁技术的开发:洗涤技术结合臭氧或碱性解决方案和微泡

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摘要

半導体製造工程で使用するレジスト剤を除去するためには、通常環境負荷の大きい薬剤等を使用する。そのため、洗浄用薬剤の使用を大幅に削減した新しい半導体ウェーハ、冶工具洗浄技術の開発が望まれている。本研究では、オゾンやアルカリ系溶液とマイクロバブル技術を組み合わせて、半導体ウェーハや製造用冶工具類の洗浄を試みた。
机译:为了除去半导体制造工艺中使用的抗蚀剂,它通常用于大的环境影响。 因此,开发新的半导体晶片和喷射/模具清洁技术,显着减少了清洁药物的使用。 在这项研究中,我们尝试通过组合臭氧,碱性溶液和微泡技术清洁半导体晶片和制造射流。

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