首页> 外文期刊>Applied optics >Configuration design for the variable pupil shaping unit of a photolithography machine
【24h】

Configuration design for the variable pupil shaping unit of a photolithography machine

机译:用于光刻机的可变瞳孔整形单元的配置设计

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

This work provides an integrated design and simulation method for a pupil shaping unit, which combines optical design and simulation software using the Python programming language. The novel approach presented here allows for systematic optimization and solves the inverse problem to obtain the configuration of a pupil shaping unit with given partial coherence factors (sigmas). The relationships among sigma, focal length, zoom lens separation, axicon separation, and ring width are investigated for conventional and annular illumination modes. Results of the pupil shaping unit for a NA 0.75 193 nm photolithography machine are presented, and a new interpolation table design method that simplifies the original method is proposed. The maximum residual experimental error for sigma is 0.01106. (C) 2020 Optical Society of America.
机译:这项工作为瞳孔整形单元提供了一种集成的设计和仿真方法,它使用Python编程语言结合光学设计和仿真软件。 这里呈现的新方法允许系统优化并解决逆问题,以获得具有给定部分相干因子(SIGMAS)的瞳孔整形单元的配置。 研究了Sigma,焦距,变焦镜分离,轴颈分离和环形宽度的关系,用于常规和环形照明模式。 提出了NA 0.75 193 nm光刻机的瞳孔成形单元的结果,提出了一种简化原始方法的新插值表设计方法。 Sigma的最大残余实验误差为0.01106。 (c)2020美国光学学会。

著录项

  • 来源
    《Applied optics》 |2020年第11期|共11页
  • 作者

  • 作者单位
  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 应用;
  • 关键词

获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号