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机译:氧等离子体蚀刻中聚合物表面粗糙化研究的混合建模框架
NCSR Demokritos Inst Nanosci &
Nanotechnol Aghia Paraskevi 15341 Greece;
Univ Ioannina Dept Mat Sci &
Engn Ioannina 45110 Greece;
NCSR Demokritos Inst Nanosci &
Nanotechnol Aghia Paraskevi 15341 Greece;
NCSR Demokritos Inst Nanosci &
Nanotechnol Aghia Paraskevi 15341 Greece;
plasma etching; kinetic Monte Carlo; profile evolution; surface roughness; level set method; wetting;
机译:使用氧等离子体蚀刻和体外矿化作用使聚己内酯表面高度粗糙化,以再生骨组织:制造,表征和细胞活性
机译:等离子刻蚀和粗糙化聚合物薄膜:一种快速,准确,原位的表面粗糙度测量方法
机译:通过等离子刻蚀进行各向异性表面粗糙化处理的高响应速度电活性高分子执行器
机译:等离子体蚀刻下表面粗糙化的三维建模与仿真
机译:交联在等离子蚀刻过程中聚合物表面粗糙化中的作用
机译:选定的表面粗糙化等离子氮化304奥氏体不锈钢中的相形成
机译:用于模拟粗聚合物基材的等离子体表面相互作用的混合模拟框架
机译:热氧化物综合处理中的表面刻蚀和粗化。