Radial control of electron temperature gradient with optimized operational configuration of double plasma device

Prince Alex; A K Sanyasi; Prabhakar Srivastav; L M Awasthi; P K Srivastava; Ritesh Sugandhi

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Radial control of electron temperature gradient with optimized operational configuration of double plasma device

机译：电子温度梯度用双等离子装置的优化操作配置径向控制

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A double plasma device (DPD) is tested for different operational configurations to identify suitable control for plasma parameters in a weakly ionized, unmagnetized plasma discharge. A separation grid is installed between the two chambers of DPD, which allows filtering of plasma from the first to the second chamber. Investigations are carried out to control the plasma parameters, especially the electron temperature by exploring the role of the grid. The grid bias is varied between -25-0V and 0-30V to reflect cooling and heating of plasma. The electron heating and cooling is prominent for the maximum ratio of n_(source)/n_(target). The electron energy distribution function (EEDF) is obtained to describe the role of grid biasing in controlling the electron temperature in the second chamber.We demonstrated control on the radial profile of electron temperature by charging different radial cross-sections of plasma differently by using a multi-grid assembly system (MGAS).We have also identified the suitable operational regime for DPD where exercising a radial control on electron temperature is possible. Such plasmas can facilitate investigations on electron temperature control for applications in plasma processing, cold-plasma material interaction, etc where low energy electrons are desired.

机译：对双等离子体装置（DPD）进行了不同操作配置的测试，以确定弱电离、非磁化等离子体放电中等离子体参数的合适控制。在DPD的两个腔室之间安装了一个隔离栅，可以将等离子体从第一个腔室过滤到第二个腔室。通过探索栅极的作用，对等离子体参数，特别是电子温度进行了研究。栅极偏置在-25-0V和0-30V之间变化，以反映等离子体的冷却和加热。电子的加热和冷却在最大的n_（源）/n_（目标）比中尤为突出。得到了电子能量分布函数（EEDF）来描述栅极偏压在控制第二腔室电子温度中的作用。我们展示了通过使用多栅极组装系统（MGAS）对不同径向截面的等离子体进行不同充电来控制电子温度的径向分布。我们还确定了适用于DPD的操作模式，其中可以对电子温度进行径向控制。这种等离子体可以促进电子温度控制的研究，用于等离子体处理、冷等离子体材料相互作用等需要低能电子的应用。

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来源
《Plasma Sources Science & Technology》 |2020年第8期|共17页
作者
Prince Alex; A K Sanyasi; Prabhakar Srivastav; L M Awasthi; P K Srivastava; Ritesh Sugandhi;
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作者单位

Institute for Plasma Research Gandhinagar 382428 Gujarat India;

Institute for Plasma Research Gandhinagar 382428 Gujarat India;

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收录信息
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类等离子体物理学;
关键词
double plasma device; plasma source; electron temperature gradient; plasma transport; radial control;

机译：双等离子体器件;等离子体源;电子温度梯度;等离子运输;径向控制;

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