机译:美国无线电公司的氢等离子体蚀刻产生的场效应钝化的研究形成了晶体硅晶片的化学氧化物
Nanjing Tech Univ Coll Mat Sci &
Engn Nanjing 211816 Peoples R China;
REC Solar Pte Ltd Dept Technol Singapore 637312 Singapore;
Nanjing Tech Univ Coll Mat Sci &
Engn Nanjing 211816 Peoples R China;
acceptor-H complexes; donor-H complexes; field effect passivation; heterojunction solar cells; hydrogen plasma etchings; interface band bendings;
机译:美国广播公司的氢等离子体蚀刻产生的场效应钝化的研究形成了晶体硅晶片的化学氧化物
机译:工业电感耦合等离子体沉积工具中用于硅晶片太阳能电池表面钝化的低温氢等离子体刻蚀工艺的研究
机译:金属辅助化学蚀刻和舍入蚀刻在金刚石线锯多晶硅晶片上的化学微观圆面
机译:超薄氧化层对结晶硅晶片的钝化作用:湿化学,等离子和热氧化技术的比较
机译:使用基于栅格的三极管射频等离子增强化学气相沉积法获得高质量的非晶态晶体硅异质结构。
机译:异丙醇浓度和刻蚀时间对低电阻晶体硅晶片湿化学各向异性刻蚀的影响
机译:通过深度地下激光加工和选择性化学蚀刻切割晶体硅晶片
机译:在硅晶片的湿化学蚀刻中保护芯片角的技术。