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机译:通过降低软光刻中的界面粘附来制备高纵横比聚二甲基硅氧烷微观结构
Chinese Acad Sci Lanzhou Inst Chem Phys State Key Lab Solid Lubricat Lanzhou 730000 Peoples R China;
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Minist Educ Coll Civil Engn &
Mech Key Lab Mech Western Disaster &
Environm Lanzhou 730000 Peoples R China;
Chinese Acad Sci Lanzhou Inst Chem Phys State Key Lab Solid Lubricat Lanzhou 730000 Peoples R China;
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soft lithography; PDMS; high-aspect-ratio microstructures; interfacial adhesion; wrinkles; cooling process;
机译:使用聚二甲基硅氧烷(PDMS)双重浇铸技术制造弹性体高纵横比微结构
机译:通过软X射线干涉光刻在各种基板上制备大面积高纵横比周期性纳米结构
机译:基于EPON树脂165和154的复合材料的新型UV光刻胶用于高纵横比的制备。
机译:光刻使用聚焦的高能质子束,用于制造高纵横比微结构
机译:用于软机器人的堆叠介电弹性体致动器制造的软光刻技术的实现
机译:基于硫醇-烯的软光刻技术制备用于连续流动细胞裂解的刚性微结构
机译:基于EPON树脂165和154的复合材料的新型UV光刻胶用于高纵横比的制备。
机译:用软X射线光刻技术制备高纵横比区域板的研究进展