机译:SiO2 / Si和石墨烯上的垂直MOS(2):表面形态对光电化学性质的影响
Univ Kebangsaan Malaysia Fuel Cell Inst Bangi Selangor Malaysia;
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Univ Kebangsaan Malaysia Inst Microengn &
Nanoelect IMEN Bangi 43600 Selangor Malaysia;
MoS2; graphene; chemical vapour deposition; photoelectrochemical water splitting;
机译:化学蚀刻对Cu表面形态,石墨烯生长及转移对SiO2 / Si衬底的影响研究
机译:石墨烯/ SiO2 / Si异质结构中的活性THz表面发射探测的界面性质
机译:通过化学刻蚀制备的一维Si纳米结构阵列的表面形貌依赖性光电化学性质
机译:Si缓冲Pt / Ti / SiO2 / Si衬底上制备的(Pb,Sr)TiO3薄膜的表面形貌
机译:多晶硅和SiO2薄膜的非Prestonian RRs和残余应力对各种类型的SiO2和Si 3N4薄膜的RRs的影响。
机译:垂直堆叠的石墨烯/单层n-MoS2 / SiO2 / p-GaN异质结构的多种功能
机译:质子AG装饰的少数层MOS2纳米胸垂直生长在石墨烯上,以获得高效的光电化学水分子
机译:福勒 - 诺德海姆隧穿电流中量子振荡的si / siO2界面形态表征