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高密度近接光記憶技術と熱アシスト記録への適用の可能性

机译:高密度近接光記憶技術と熱アシスト記録への適用の可能性

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摘要

磁気ディスク装置ではすでに面記録密度が130 Gbit/inch~2を超える商用機が登場し,一方研究的には400 Gbit/inch~2を超えるポテンシャルも確認されたことから,ようやく1Tbit/inch~2の大台が見えてきた.記憶性能は単にヘッド・媒体等のキーパーツ革新や性能向上によって達成されるものではなく,関連する多くの技術の連携と調和によって前進してきたのが歴史の示すところでもあり,トレンド上は目標が射程に入ってきたが,まだ幾多の困難も横たわっているものと思われる.ところで光の超微小集光を旨とする表面光記憶については,一時磁気の密度性能の鈍化がささやかれ,同時に固体液浸レンズを用いた実用記憶システムがアナウンスされ出すのと並行して,近接場原理を金属開口に応用した系を中心こ積極的に研究がなされ出した.表面光記録は,浮動ヘッドを用いることにより常にクラッシュなる磁気記録のアキレス腱と,光の伝家の宝刀である媒体可換性の放棄と言ういわば「悪いところ取り」技術として必ずしもその将来像や進展はかばかしくない面もある.しかし直近に明瞭な原理制約がないことや本特集の主眼である熱磁気記録への適用性もあることから,長い展望に立って研究開発がなされている.
机译:在磁盘单元中,面记录密度超过130 Gbit/inch~2的商用机器已经出现,并且研究证实了超过400 Gbit/inch~2的潜力,因此我们终于达到了1 Tbit/inch~历史表明,内存性能不是简单地通过创新磁头、介质等关键部件、提升性能来实现的,而是通过众多相关技术的协调与协调而推进的,虽然目标已经进入趋势范围,但似乎仍有许多难点需要解决。同时,在宣布使用固态浸没透镜的实用存储系统的同时,进行了积极的研究,主要是将近场原理应用于金属孔径的系统。 作为一项可以这么说的“拿坏部分”的技术,它摒弃了作为光传播者的宝剑——媒体交换性,其未来的愿景和进步并不一定是荒谬的。

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