Influence of chlorine on etched sidewalls in chemically assisted ion beam etching with SU-8 as mask

著录项

• 来源
  《Optical Engineering》 |2005年第6期|063401-1-063401-4-0|共4页
• 作者

  Lin Pang; Chia-Ho Tsai; Yeshaiahu Fainman;

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• 作者单位

  University of California, San Diego Department of Electrical and Computer Engineering 9500 Gilman Drive La Jolla, California 92093-0407;

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• 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
• 原文格式 PDF
• 正文语种 英语
• 中图分类 光学仪器;
• 关键词

  dry etching; sidewall; SU-8; holographic lithography; duty ratio;