先端半導体CMOSデバイス製造における空調技術の課題と動向

著录项

• 来源
  《空気調和·衛生工学》 |2007年第11期|43-48|共6页
• 作者

  清田久晴; 服部毅;

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• 作者单位

  ソニー（株）モノ造り技術センター;

  元ソニー（株）半導体事業部;

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• 收录信息
• 原文格式 PDF
• 正文语种 日语
• 中图分类 区域规划、城乡规划;
• 关键词

  CMOSデバイス; クリ－ン化; パ－テイクル; メタル汚染; 分子汚染制御; リソグラフイ; ミニエン; FOUP; CMOS Device; Ultra Clean Technology; particle; metal Contaminatin; Molecule Contamination Control; Lithography; Mini-Environment; Front Opening Unified Pod;