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摘要
本稿では，プラズマCVDプロセスを理解するにあたって必要と思われる概念について，主にシラン（SiH_4）を原料ガスとしたSi成膜を例に挙げて説明する．
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著录项
来源
《精密工学会誌》
|
2016年第983期
|
956-960
|
共5页
作者
垣内弘幸;
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作者单位
大阪大学;
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收录信息
原文格式
PDF
正文语种
日语
中图分类
机械制造工艺;
仪器、仪表;
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