机译:Effect of the Threshold Kinetics on the Filament Relaxation Behavior of Ag-Based Diffusive Memristors
Forschungszentrum Julich, Peter Grunberg Inst PG17 & 10, Wilhelm Johnen Str, D-52428 Julich, Germany|Forschungszentrum Julich, JARA FIT, Wilhelm Johnen Str, D-52428 Julich, Germany|Rhein Westfal TH Aachen, Inst Mat Elect Engn & Informat Technol 2, Sommerf;
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electrochemical metallization; diffusive memristor; relaxation time; switching kinetics; threshold switching; volatile switches;