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平成のX線光学·超精密加工を振り返る: 高精度X線ナノ集光ミラーの開発と超精密加工

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摘要

X線ミラーの開発は,平成の時代に大いなる発展を遂げている.これを牽引したのは,産業界においては,次世代半導体デバイスの実現に必要な波長13nmの極端紫外線露光装置の開発であり,また,基礎科学においては,急速に高度化する放射光科学が求める高精度X線光学系の実現である.前者においては,光学系の開発主体が企業であることから,核心の技術が秘匿されており,また,残念ながら現在の主戦場がヨーロッパに移っていることから,恐縮ながら,本報では私が携わった後者の話題にフォーカスして研究·開発の流れを紹介し,X線ミラーの開発と超精密加工技術との関わりについての総括とさせていただきたい.具体的には,X線ミラーに求められる精度について解説し,これを実現するために開発した加工法と計測法について述べる.その後に,放射光施設での具体的な応用例を紹介し.最後に,令和の時代に求められるX線光学素子について,私見を述べさせていただこうと思う.

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