ナノ潤滑膜の特異性と課題

加藤孝久

摘要

機械要素の微小化に伴い，ナノメータレベルの緻密な制御が不可欠と考えられている．たとえば，半導体露光装置では100nm以下の超微細加工技術がすでに要求され，また，コンピュータ磁気記録装置においては近い将来磁区の大きさが30nm程度になると予想されている．このような極限微小要素の製作，あるいは制御には少なくとも10nm以下の位置決め技術が必要であり，そこではトライボロジーがキーテクノロジーとなる．この10年間，磁気ディスクにおける潤滑技術の開発がナノトライボロジーの主たる牽引車であった．磁気ディスクの記録密度は1993年の100Mb／in~2から2003年の50Gb／in~2まで，この10年間で500倍に増加し，これに伴って，磁気ディスク上の磁気ヘッドの物理的浮上呈は100nmから10nmまで1／10に低下した．このような超低浮上を実現するために，磁気ディスク表面の原子レベル平滑化技術（表面粗さが1nm R_a程度），硬質ナノ薄膜形成技術（厚さ5nm以下のカーボン保護膜），ナノ潤滑膜塗布技術（厚さ2nm程度の潤滑膜）などいくつかのナノテクノロジーが発展してきた．磁気ディスグ産業が成熟期へと移行しつつある現在これらの技術も個々にはある程度完成されつつあると考えてよい．

ナノ潤滑膜の特異性と課題

摘要

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