イオンビームを用いたナノ構造の実現

和田元; Motoi Wada

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イオンビームを用いたナノ構造の実現

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同志社大学ハイテクリサーチのカテゴリー研究B領域，"イオンビームを用いたナノ構造加工研究"ではイオンビーム堆積によるナノ厚の成膜技術と，ナノサイズビームを用いた2次元ナノ構造の実現技術の開発に取り組んできた．今回はこの中で，イオンビームを利用したナノ構造製作の進捗状況について発表する．イオンビームによる微細構造の作成には，マスクを用いる方法と，一筆書き的に偏向を利用して，サイズの細いビームを走査して構造を形成する二通りの方法がある．前者は大量生産に適した方法であり，後者は空間電荷の問題から，本質的な限界が生じうる加工法である．しかしながら，これまでの空間電荷問題の取り扱いは決して十分詳細なもので無く，特に高電流密度負イオンビームが生成可能となった今日，負イオンビームー正イオンビームの混合率を用いたビーム圧縮技術に，大きな展開の可能性が生じている．我々の研究グループは，既にこのようなイオンビーム輸送系でビーム収束が可能である事を示している．現在は実験的に，どのような形態のシステムが可能であるか，調査を継続中である．

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来源
《同誌社大学理工学研究報告》 |2002年第4期|67-72|共6页
作者
和田元; Motoi Wada;
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作者单位

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收录信息
原文格式 PDF
正文语种日语
中图分类工程基础科学;
关键词
空間電荷; 電荷中和; ナノ構造; イオンビーム; 負イオン; Space charge; Charge neutralization; Nanometer structure; Ion beam; Negative ion;

イオンビームを用いたナノ構造の実現

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